格隆汇3月7日丨清溢光电近日在接待机构投资者调研时表示,平板显示掩膜版方面,公司陆续引进新的光刻机设备,后续将进一步提升产能。
半导体掩膜版业务方面,公司目前已拥有业内先进的激光光刻机,CD精度可达到130nm掩膜版的要求。佛山生产基地项目拟引入的光刻设备将不限于激光光刻机,也将适时考虑引入电子束光刻机。由于半导体光刻机的采购周期较长,公司技术方面正在逐步提升,公司将分步投资,具体请关注公司后续披露的相关公告。
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